产品名称：结构分析场发射扫描电镜/ ULTRA系列扫描电镜
产品型号：
更新时间：2017-06-28
产品特点：结构分析场发射扫描电镜/ ULTRA系列扫描电镜仪器简介：在SUPRA™场发射扫描电子显微镜基础上发展起来的ULTRA 场发射扫描电子显微镜是用于纳米结构分析的电子束成像仪器中的*，它接收效率高、可以超高分辨率成像。开发的能量选择式背散射电子探测器（EsB）和角度选择式背散射电子探测器（AsB）则代表了著名的GEMINI®技术的发展。
产品详细资料：
结构分析场发射扫描电镜/ ULTRA系列扫描电镜ULTRA综合采用了用于形貌成像的GEMINI® In-len二次电子探测器、用于清晰的组分衬度的EsB探测器和用于采集晶体通道信息的AsB探测器。同步的实时成像与信号混合功能提供了*的成像能力。
EsB探测器包含有一个过滤栅网，通过它可实现高分辨率背散射电子成像，让以前无法看见的细节历历在目。
卡尔.蔡司*的荷电补偿功能在使用所有探测器时，都可以分析非导电样品
低加速电压时的超高分辨率二次电子和背散射电子成像
用于在纳米尺度上实现组分衬度成像的高效EsB / AsB探测器
精确控制的超大自动优中心（eucentric）样品台
背散射电子和二次电子信号的实时成像与混合功能
抑制不导电样品的荷电效应
用于X射线分析和背散射电子衍射（EBSD）应用的超稳定束流模式
结构分析场发射扫描电镜/ ULTRA系列扫描电镜技术参数：
ULTRA基本规格 | |
分辨率 | 1.0 nm @ 15 kV 1.7 nm @ 1 kV 4.0 nm @ 0.1 kV |
加速电压 | 0.1 - 30 kV |
探测电流 | 4 pA - 20 nA |
放大倍数 | 12 - 900,000x |
电子枪 | 热场发射 |
标准探测器 | 镜筒内置式In-Lens二次电子探测器和EsB探测器，样品室内AsB探测器和ET探测器 |
图象处理 | 7种积分和平均模式 |
系统控制 | 基于Windows® XP的SmartSEM™ |
ULTRA 55SE
成像与测量工作站
主要特点：
ULTRA——*的成像工具
看得更多——超高分辨率的SE与BSE同步成像
看得更清——精确的*成像能力
看得更细——纳米尺度上进行组分分析的利器
简便易用——全面集成的镜筒内置式背散射电子探测器（EsB）和二次电子探测器（In-lens detector）
远离荷电——Ultra plus中安装有荷电补偿器，实现了不导电样品的清晰、精确成像
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