主要功能和技术指标：
主要功能：Helios NanoLab 400S可用于实施实验室标准应用的纳米级磨削、成像、分析和样品制备。配置超高分辨Elstar场发射扫描镜筒，采用钨灯丝电子源，可实现各种条件下超清晰成像。FEITomahawk离子镜筒，提供稳定的Ga离子束流，确保机器执行快速、精确且可靠的磨削、制图和离子成像，的低电压性能可制造出高分辨率STEM和原子探针显微镜所用的超薄样品；多种化学气体注入，可以进行沉积、增强刻蚀等多种操作。
技术指标：电子束分辨率： 在最佳工作距离 - 0.9nm@15kV - 1.4nm@5kV。在束交叉点分辨率 - 1.0nm@15kV - 1.6nm@5kV - 2.5nm@1kV 离子束分辨率 - 在束交叉点： 4.5nm@30kV (选用Multi-edge平均值法测量) 2.5nm@30kV (选用单边值测量) 最大水平视场 - 电子束：2.3mm @ 束交叉点（工作距离WD 4mm） - 离子束：1.0mm @ 5kV , 束交叉点（工作距离WD=4mm） 加速电压 - 电子束： 350V – 30kV - 离子束： 0.5 – 30 kV 束流 - 电子束：  22nA 离子束：1pA – 65 nA (15孔光阑条) 探测器 - 新一代极靴内探测器（TLD）用于二次电子和背散射电子探测 - ETD二次电子探测器 - 红外CCD - ICE探头用于测量离二次电子和二次离子 - 样品室 - 4mm分析工作距离(电子束和离子束交叉点) - 两束夹角52度 5轴高精马达台 - X/Y: 150mm, 压电陶瓷驱动 - Z 10mm (自动) - T= -10度 到 +60度 - R=nx 360度 - 倾斜精确度0.1度（50度到54度之间） - X/Y方向 重复性1.0微米 样品尺寸 - 最大样品：150mm直径，可以自由旋转（更大样品旋转受限） - 最大样品厚度：55mm(7mm WD) - 重量：500g(包括样品托)