JSM-IT100（JEOL 日本电子 InTouchScope™ 钨灯丝扫描电镜）

一、基础定位

二、核心光学参数

1. 分辨率

• 高真空 HV：3 nm @30 kV（二次电子 SE）；4 nm@20 kV、8 nm@3 kV、15 nm@1 kV

• 低真空 LV：4 nm @30 kV、5 nm @20 kV

• 背散射 BSE：4 nm @30 kV

2. 电子枪与电压

• 灯丝：预对中钨发夹灯丝，支持全自动电子枪对中

• 加速电压：0.5～30 kV（53 档精细调节）；低真空模式上限 20 kV

• 放大倍率：5×～300,000×

3. 真空系统

• 模式：高真空标配；低真空 LV 选配（10～100 Pa），可观测不导电样品无需喷金

• 真空泵：分子泵 + 旋转泵，无需外接冷却水，普通市电即可运行

4. 样品台（同心全自动台）

• X：80 mm / Y：40 mm / Z：5～48 mm

• 倾斜：-10°～+90°，360° 连续旋转

• 最大样品直径：150 mm，兼容大尺寸块状样品

三、机身与安装优势

1. 占地比前代机型缩小约 30%，体积接近台式桌面电镜，实验室改造门槛低

2. 仅需单相市电，无循环水冷机组，运维成本更低

3. 一体化触控 InTouchScope 软件，SEM 成像与 EDS 能谱同窗口无缝切换JEOL Ltd.

四、EDS 能谱选配功能（原厂硅漂移 SDD）

• 基础：元素定性 / 定量、点分析、线扫描、元素面分布 Mapping

• 增强：局部区域分析、Mapping 滤波、漂移补偿、自动图谱采集

• 输出：BMP/TIFF/JPG 图像、能谱原始数据导出

五、适用场景

1. 金属材料：断口失效分析、金相组织、镀层厚度、夹杂物观察

2. 无机非金属：陶瓷、矿石、粉体、涂层、半导体晶圆形貌

3. 高分子 / 复合材料：塑料、玻纤、填料分散观察（低真空免喷金）

4. 高校教学、质检实验室、中小企业来料检测、微量异物分析

六、主要选配模块

• 低真空 LV 组件（绝缘样品免喷金）

• JEOL 原厂 SDD EDS 能谱仪

• 导航台、景深合成、颗粒统计分析软件

• 高低温样品台、拉伸台、腐蚀原位台等原位模块

七、机型对比小结

• 优势：钨灯丝维护成本低、占地小、免水冷、操作简单、成像稳定；配套 EDS 一体化程度高

• 短板：钨灯丝亮度不如场发射，高分辨极限 3 nm，不适合纳米级超高分辨科研；