产品名称:二手FEI-SEM电镜 FEI-QUANTA250
产品型号:
更新时间:2024-04-28
产品特点:二手FEI-SEM电镜 FEI-QUANTA250 FEI Quanta 系列包括六款可变压力和环境扫描电子显微镜 (ESEM™)。所有这些产品均可满足工业工艺控制实验室、材料科学实验室和生命科学实验室的多种样本和成像要求。
产品详细资料:
二手FEI-SEM电镜 FEI-QUANTA250 uanta 系列扫描电子显微镜属于多功能、高性能仪器,并具有高真空、低真空和 ESEM 三种模式,能够处理的样本类型之多堪称 SEM 系统。所有 Quanta SEM 系统均可配备分析系统,比如能量色散谱仪、X 射线波长色散谱仪以及电子背散射衍射系统。此外,场发射电子枪 (FEG) 系统含有一个用于明场和暗场样本成像的 S/TEM 检测器。SEM 系统中的另一个可变配置是电动工作台的尺寸(分 50mm、100mm 和 150mm 三种)以及电动 Z 轴行程的大小(分别为 25mm、60mm 和 65mm)。Quanta 250 和 250 FEG 都设计了大标本室,能够分析和浏览大型标本。
Quanta 的材料科学应用
随着 Quanta 250 系列的推出,现在的 Quanta SEM 系列更为灵活。对于材料科学来说,这些全新仪器可满足对众多类型材料进行研究以及表征结构和成分的需求。FEI Quanta™ 系列十分灵活,功能多样,能够应对当今众多研究领域的挑战。观测任意样本并获得所有数据 - 表面和成分图像可与配件结合起来,确定材料属性和元素成分。
Quanta 旨在增加您实验室的可发表成果。Quanta 标准环境 SEM (ESEM) 功能可以提供额外的能力,用于处理您之前认为电子显微技术无法处理的样品和应用,同时协助预测长期的材料性能。
· 对水化物样品成像。
· 潮湿或热循环期间的结晶或相变。
· 悬浮或自组装过程中的粒子。
· 金属腐蚀。
· 拉伸试验(根据需要加热或冷却)。
二手FEI-SEM电镜 FEI-QUANTA250 Quanta 自身的多功能性使之非常适合用于材料科学。它善于执行传统高分辨率 SEM 成像/分析,在动态原位 实验方面同样游刃有余。Quanta 可以让您研究自然状态下的广泛样品,从而获得最准确的结构和组成信息:
· 氧化/腐蚀样品
· 陶瓷材料、复合材料、塑料
· 薄膜和涂层
· 软材料:聚合物、药物、凝胶
· 颗粒物、多孔材料、纤维
典型应用:
检测器
• E-T二次电子探头
纳米表征
金属及合金, 氧化/腐蚀, 断口, 焊点, 抛光断面, 磁性及超导材料
陶瓷, 复合材料, 塑料
薄膜/涂层地质样品断面, 矿物
软物质: 聚合物, 药品, 过滤膜, 凝胶, 生物组织, 木材
颗粒, 多孔材料, 纤维
原位过程分析
增湿/去湿
浸润行为/接触角分析
氧化/腐蚀
拉伸 (伴随加热或冷却)
结晶/相变
纳米原型制备
• 电子束曝光 (EBL)
• 电子束诱导沉积(EBID)
主要参数
电子光学
高分辨肖特基场发射电子枪
优化的高亮度、大束流镜筒
45°锥度物镜极靴,及“穿过透镜"的压差真空系统,加热式 物镜光阑
加速电压: 200 V - 30 kV
束流: 最大200 nA并连续可调
放大倍数: 14 x – 1,000,000 x (四幅图像显示)
分辨率
高真空
– 30 kV下0.8 nm (STEM)*
– 30 kV下1.0 nm (SE)
– 30 kV下2.5 nm (BSE)*
– 1 kV下3.0 nm (SE)
高真空下减速模式*
– 1 kV下3.0 nm (BSE)*
– 1 kV下2.3 nm (ICD)*
– 200 V下3.1 nm (ICD)*
低真空
– 30 kV下1.4 nm (SE)
– 30 kV下 2.5 nm (BSE)
– 3 kV下3.0 nm (SE)
环境真空 (ESEM)
– 30 kV下1.4 nm (SE)
检测器
• E-T二次电子探头
•大视场低真空气体二次电子探头 (LFD)
• 气体二次电子探头 (GSED)
• 样品室红外CCD相机
• 高灵敏度、低电压固体背散射探头*
• 气体背散射探头*
• 四分固体背散射探头*
• 闪烁体型背散射探头/CLD*
• vCD(低电压、高衬度探头)*
• 镜筒内探头(ICD),用于减速模式下二次电子检测*
• 电子束流检测器*
• 分析型气体背散射探头 (GAD)*
• STEM探头*
• Nav-CamTM– 光学相机彩色成像,用于样品导航*
• 阴极荧光探测器*
• 能谱*
• 波谱*
• EBSD*
• 极靴底部安装四环分隔式定向型背散射电子探头 (DBS)*
真空系统
• 1个 250 l/s 涡轮分子泵, 2个机械泵
• “穿过透镜"的压差真空系统
• 电子束在气体区域的行程:10 mm或2 mm
• 可升级成无油机械泵
• 2个离子泵
• 样品室真空度 (高真空模式) < 6e-4 Pa
• 样品室真空度(低真空模式) < 10 to 130 Pa
• 样品室真空度(环境真空模式) < 10 to 4000 Pa
• 典型换样时间: 高真空模式≤ 150秒;低真空及环境真空模式 ≤ 270秒 (FEI标准测试程序)
样品室
• 左右内径284 mm
• 10 mm分析工作距离
• 8个探测器 / 附件接口 • EDS采集角: 35°
样品台
• X/Y = 50 mm
• Z = 50 mm (其中马达驱动25 mm) • 手动倾斜:- 15° to + 75°
• 连续旋转360°
• 重复精度: 2 μm (X/Y方向)
• 全对中样品台
样品座
• 多样品座
• 单样品座
• 通用样品座套件*
• 适用于硅片或其它特殊要求的样品座*
图像处理器
最大6144 x 4096像素
图像文件格式:TIFF(8,16 or 24 bit), BMP or JPEG
单窗口或四窗口图像显示
四活动窗口
实时或静态按彩色或按灰度等级信号混合
256 帧平均或积分
数字动画记录 (.avi格式)
直方图及图像测量软件
DCFI (漂移补偿积分)
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