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产品名称:二手 Hitachi SU8220 冷场发射电镜

产品型号:

更新时间:2026-07-01

产品特点:二手 Hitachi SU8220 冷场发射电镜 系列中端冷场发射电镜,同系列还有 SU8230、SU8240,后续迭代型号为 Regulus8220;核心革新是改良型冷场电子枪,解决传统冷场束流弱、不稳定、频繁闪光的痛点,兼顾超高分辨成像 + 长时间 EDS 元素分析,是纳米、半导体、软材料领域主流机型.

产品详细资料:

一、核心硬件:新一代改良冷场发射电子枪(CFE)二手 Hitachi SU8220 冷场发射电镜

冷场 vs 肖特基(热场)核心优势

 参数  SU8220 冷场 (CFE)常规肖特基热场
能量散度          0.2~0.3 eV    0.6~0.8 eV
电子源亮度     ~10⁸ A/cm²·sr                    ~10⁷ A/cm²·sr
源尺寸15~30 nm5 nm
低电压成像清晰、束损伤极小低电压分辨率偏弱





日立改良技术

  1. Mild Flashing 温和闪光:减少针尖损耗、降低气体吸附,闪光后快速进入稳定束流,无需长时间等待;

  2. 超高真空电子枪腔体:抑制针尖碳污染,束流稳定性大幅提升,可连续数小时做 EDS 面扫 / 线扫;

  3. 相比老式 SU8000,探针电流提升数倍,弥补传统冷场 “只能看、不能分析" 短板Hitachi High-Tech。



  4. 二手 Hitachi SU8220 冷场发射电镜

二、关键技术参数(标准)

1. 分辨率(二次电子 SE)

  • 0.8 nm @15 kV(工作距离≥3 mm)

  • 1.1 nm @1 kV(减速模式,低电压观测软材料)

2. 电压范围

  • 标准模式:0.5 ~ 30 kV

  • 减速着陆模式:0.01 ~ 2 kV( 10V),适合高分子、生物、二维材料、锂电池极片,大幅降低电子束辐照损伤

3. 放大倍率

20× ~ 1,000,000×(最高 200 万倍可选配置)

4. 探测器系统(3 通道多信号同步采集)

  • SE (U) 高位二次电子:表面形貌、高分辨细节

  • SE (L) 低位二次电子:凹凸立体感、大景深

  • BSE 背散射电子:成分衬度,区分轻重元素

  • 选配 Top 过滤器:增强材料相区分对比度

5. 样品台

5 轴全自动马达台(X/Y/Z/ 倾斜 T / 旋转 R),大行程,兼容 10mm 以内常规块状 / 粉末样品;无磁样品优先。

6. 标配分析拓展(主流配置)

  • Bruker FlatQuad 平插式四通道 SDD-EDS(60mm² 探测器):轻元素 B~U 同步检测,低电压下微区元素 mapping;

  • 可选附件:STEM 透射扫描、EBIC 半导体缺陷、阴极发光 CL、电子束曝光、冷台 / 热台。

二手 Hitachi SU8220 冷场发射电镜
纳米管SE图像
二手 Hitachi SU8220 冷场发射电镜
高分子负载纳米颗粒
二手 Hitachi SU8220 冷场发射电镜
EDS元素面扫

三、整机核心优势

  1. 低电压成像

    极小能量散度 + 冷场高亮度,1kV 及以下电压依然保持纳米级分辨率,有机、生物、聚合物、碳材料不会烧蚀、变形。

  2. 成像 + 分析一体化

    传统冷场束流弱,无法长时间 EDS;SU8220 改良枪实现稳定大束流,高分辨形貌 + 大面积元素面扫同步完成。

  3. 低污染、易维护

    枪体 + 样品室双超高真空设计,针尖、样品污染速率远低于老款冷场,闪光频次降低,运维成本更低。

  4. SuperExB 信号分离物镜

    电子束与信号光路分离,SE/BSE 信号互不干扰,同时输出形貌 + 成分双衬度图像,多相复合材料观测更直观。

  5. 自动化工作流

    EM Flow Creator 批量自动采图、自动 EDS 分析,适合高通量材料筛选、半导体失效分析。

四、二手 Hitachi SU8220 冷场发射电镜典型应用领域

  1. 半导体微电子

    晶圆表面缺陷、光刻胶、薄膜台阶、芯片截面、纳米器件形貌 + 元素分布;低电压观测不损伤光刻胶、低 k 介质层。

  2. 纳米材料 / 催化

    纳米线、纳米管、MOF、催化剂颗粒、二维材料(石墨烯、MXene)微观形貌与元素 mapping。

  3. 能源材料

    锂电池正负极、隔膜、燃料电池电极、多孔碳材料,低电压避免有机粘结剂碳化。

  4. 高分子 / 生物软材料

    聚合物薄膜、纤维、生物临界点干燥样品,10V~1kV 着陆电压,无束损伤。

  5. 金属 / 无机陶瓷

    金相剖面、陶瓷孔隙、镀层界面、粉末颗粒粒度与成分分析。

五、使用注意事项

  1. 样品要求:干燥、无挥发、无磁性、无腐蚀性;含水生物样品必须临界点干燥喷金 / 喷碳;

  2. 磁性样品需消磁或采用无磁样品台,避免电子束偏移、图像畸变;

  3. 冷场电子枪仍需定期 Mild Flashing,相比肖特基维护频次更高,但远优于老式 SU8000;

  4. 粉末样品需充分固定,防止真空下飞粉污染枪体与探测器。

六、同系列机型区分

  • SU8220:基础高分辨型,常规科研、高校测试中心主流款;

  • SU8230:加长物镜、更大束流,侧重大批量 EDS 分析;

  • SU8240:顶配,分辨率,适配半导体工厂严苛质检场景;

  • 换代型号:Regulus8220,在 SU8220 基础上优化低电压分辨率至 0.7nm@1kV。

二手 Hitachi SU8220 冷场发射电镜


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