电子枪与透镜系统：配备高亮度六硼化镧电子枪和优化的透镜系统，能在各种条件下提供高分辨率图像，即使在工作距离 10mm、探针电流 1nA 的分析模式下也能获取 10 万倍的清晰图像。

1：分辨率：高真空模式下，分析时分辨率为 1.5nm（@30kV）、4nm（@1kV）；低真空模式下，分辨率为 1.8nm（15kV，BED）。

• 放大倍率：以 128X96mm 的显示尺寸规定放大倍率时，为 X5-X600,000；以 358mmX269mm 的显示尺寸规定放大倍率时，为 X14-X1,679,449。

2：加速电压：加速电压 0.5kV-30kV 连续可调。

3：低真空模式：低真空压力范围为 10-150Pa，便于观察电子束敏感样品，能减轻热损伤，也能鲜明地确认绝缘材料的细微结构。

4：样品台：采用大型全对中样品台，X 方向行程为 125mm，Y 方向为 100mm，Z 方向为 80mm，倾斜角度为 - 10-90°，旋转角度为 360°，样品尺寸为直径 200mmX 高度 75mm。

5：自动功能：具备电子束对中调整、自动聚焦、自动消像散、自动亮度、自动衬度等全面的自动化功能，提高操作便捷性和工作效率。

6：图像模式：支持二次电子像、REF 像、成分像、拓扑像、阴影像等多种图像模式。

7：元素分析功能：配备大口径的 EDS，支持快速面分布，70 秒即可获得面分布结果。在观察屏幕上可以随时显示分析区域内的特征 X 射线谱图以及自动定性的主要构成元素。

8：数据管理软件：搭载 SMILE VIEWTM Lab 数据集中管理软件，能对与样品台坐标关联的 CCD 图像、SEM 图像、EDS 分析结果等数据进行统一管理，并快速生成报告。

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