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一、开机与系统准备
开机顺序:先通载气(氦气纯度≥99.999%,分压 0.5–0.7 MPa)→开电脑→GC→MS→裂解器;MS 抽真空至≤1×10⁻⁴ Pa(约 1–2 小时),确认真空正常后再调谐。
气路与捕集阱:载气加装氧 / 水捕集阱并定期更换;进样前用溶剂空白(如正己烷)运行 1–2 针,确认无残留污染。
裂解器与传输线:裂解器温度≤700℃,传输线温度≥裂解温度 50℃且≤320℃,防止裂解产物冷凝;检查裂解器隔垫、石英管 / 衬管的洁净度,必要时更换或硅烷化处理。
质谱调谐:自动调谐确保 m/z 69 基峰强度正常,m/z 28(N₂)≤m/z 69 的 1/2,检测器电压≤1.5 kV,半高峰宽(FWHM)偏差≤0.1;保存调谐文件用于数据采集。
二、样品准备与进样
样品规格:固体样品 0.1–1 mg(推荐 0.5 mg),均匀置于石英样品杯 / 舟中,避免粘壁;高活性 / 强吸附样品可加少量石英棉或不加,防止吸附损失。
空白与质控:每批样品带空白(空石英杯 / 舟)、校准标样与加标回收样,确保无系统污染,回收率 70%–120%。
进样操作:手动进样时避免接触热部件(防烫伤),样品杯轻放至裂解区;自动进样时检查进样针与样品盘位置,防止卡针或漏样。
裂解参数:根据样品类型设定裂解温度、升温速率与保持时间(如塑料常用 600–700℃,保持 10–30 s);未知样品从低温度(如 400℃)开始摸索,避免过度裂解。
三、GC 与 MS 方法设置
| 参数项 | 注意事项 |
|---|---|
| 进样口 | 温度 250–300℃;分流比 10:1–100:1(高浓度用高比分流);使用去活性分流 / 不分流衬管,定期更换隔垫(每 50–100 针) |
| 色谱柱 | 选用弱极性柱(如 DB-5MS),柱流量≤1.5 mL/min;柱温程序初始温度低于溶剂沸点 10–20℃,终温≤320℃,避免固定相流失 |
| 传输线 | 温度 280–320℃,与柱温匹配,防止产物冷凝 |
| 质谱条件 | 离子源 200–250℃,接口 280–300℃;扫描范围 m/z 35–1000,根据目标物调整;定量需用标准曲线,R²≥0.99 |
四、污染预防与控制
耗材与环境:用玻璃 / PTFE 耗材,禁用 PVC 手套与塑料滴管;样品瓶经 200℃烘烤 2 h 或溶剂超声清洗;溶剂为色谱纯,开封后密封并做空白验证。
仪器清洗:分析高浓度样品后,用溶剂空白 + 高温程序升温(280℃保持 10 min)清洗色谱柱;定期清洁离子源(每 100–200 针),必要时更换衬管与分流捕集阱。
交叉污染:不同样品类型(如高 / 低浓度、不同基质)间用空白过渡,避免残留干扰;更换样品前用空白溶剂冲洗进样系统。
五、数据采集与后处理
实时监控:观察总离子流色谱图(TIC)基线与峰形,异常时暂停分析并排查原因(如漏气、污染)。
数据处理:定性用 NIST 谱库检索,结合保留时间与特征离子;定量时检查积分参数,手动修正异常峰,确保结果可靠。
数据保存:及时保存原始数据、方法文件与调谐报告,备份至服务器,防止数据丢失。
六、关机与维护
关机顺序:先停数据采集→关闭裂解器加热→GC 降温至 50℃以下→MS 执行 Vent 放气→关闭 MS→GC→电脑→载气。
日常维护:定期更换隔垫、衬管、捕集阱;清洁进样口、传输线与离子源;机械泵油每年更换 2 次,保持油位正常。
安全规范:操作时戴耐高温手套与护目镜;通风良好,排出裂解产生的有害气体;熟悉应急预案,处理泄漏或过热等紧急情况。

七、常见问题与解决
| 问题 | 可能原因 | 解决方法 |
|---|---|---|
| 基线噪声大 | 载气不纯、离子源污染 | 更换捕集阱,清洗离子源,重调谐 |
| 峰拖尾 / 分裂 | 衬管活性高、柱安装不良 | 更换去活性衬管,重新安装色谱柱 |
| 裂解产物峰少 | 裂解温度低、样品量不足 | 提高裂解温度,增加样品量(≤1 mg) |
| 真空度不达标 | 气路泄漏、密封圈老化 | 用氦气检漏,更换密封圈,延长抽真空时间 |


